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氧化鋁陶瓷片在真空環境中會放氣嗎?影響真空度怎么辦?

作者: 瀏覽量: 來源: 時間:2025-05-30

信息摘要:

?放氣率關鍵數據(ASTM E595標準):?? 條件 放氣率(TML%) 冷凝揮發物(CVCM%) 達標要求 普通96%氧化鋁 0.85% 0.15% ? 不達標 ?真空級99.5%

?放氣率關鍵數據(ASTM E595標準):??

條件 放氣率(TML%) 冷凝揮發物(CVCM%) 達標要求
普通96%氧化鋁 0.85% 0.15% ? 不達標
?真空級99.5%氧化鋁? ?0.02%?? ?0.002%?? ?? 符合NASA標準

?真空污染控制方案:??

  1. ?材料預處理:??
  • 1200°C高溫焙燒(去除有機雜質)
  • 離子清洗表面(減少吸附氣體)
  1. ?表面鍍膜防護:??
  • 磁控濺射鍍鋁膜(阻隔氣體滲透)
  • 放氣率再降90%
  1. ?結構設計優化:??
  • 避免多孔結構(密度需>3.92g/cm³)
  • 銳角倒圓角(減少氣體滯留)

?應用等級:??

  • 高真空(10?³~10?? Pa):標準99%氧化鋁+清洗
  • 超高真空(<10?? Pa):必須用真空級99.5%氧化鋁
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