碳化硅（SiC）圓形鏡面是一種基于反應燒結或化學氣相沉積（CVD）技術制備的高性能光學基材，具有接近零熱膨脹系數（1.5×10??/°C）、超高熱導率（200W/m·K）及亞納米級表面粗糙度（Ra≤0.5nm）等特性。專為高功率激光器、太空望遠鏡、半導體光刻機及紅外光學系統(tǒng)設計，可顯著提升鏡面在極端溫度、輻射及機械載荷下的穩(wěn)定性，是替代、金屬反射鏡的尖端材料。
?核心優(yōu)勢?
? ?極致熱穩(wěn)定性?：熱膨脹系數＜2×10??/°C（20-400°C），熱變形量僅為玻璃鏡面的1/50。
? ?超高導熱性能?：熱導率200W/m·K，快速散熱避免熱透鏡效應，適配千瓦級激光系統(tǒng)。
? ?超精密光學表面?：拋光后粗糙度Ra≤0.5nm，反射率＞99.5%@1064nm（鍍）。
? ?輕量化高剛性?：密度3.1g/cm³，抗彎強度≥400MPa，比剛度（E/ρ）是熔融石英的4倍。
? ?全環(huán)境耐受性?：抗輻射、耐酸/堿腐蝕，工作溫度范圍-200°C至1650°C。
?技術規(guī)格?
| ?參數? | ?規(guī)格詳情? |
|---|---|
| ?材質類型? | 反應燒結碳化硅（RB-SiC）、化學氣相沉積碳化硅（CVD-SiC） |
| ?鏡面直徑? | 10-1500mm（標準款），可定制2m以上超大尺寸 |
| ?面形精度? | λ/20@632.8nm（RMS），λ/10 PV（高能激光級） |
| ?表面粗糙度? | Ra≤0.5nm（拋光+鍍膜后） |
| ?熱膨脹系數? | 1.5-4.2×10??/°C（20-400°C，視工藝而定） |
| ?鍍膜選項? | 金（Au）、銀（Ag）、介質膜（HR@1064nm/10.6μm）、抗激光損傷膜（＞10kW/cm²） |
| ?認證標準? | ISO 10110、MIL-PRF-13830、NASA低釋氣（ASTM E595） |
?應用場景?
- ?高能激光系統(tǒng)?：
- 工業(yè)激光切割頭聚焦鏡、光纖激光器諧振腔鏡、超快激光啁啾鏡。
- 定向能武器反射鏡、激光核聚變裝置光束導向鏡。
- ?航天與天文光學?：
- 太空望遠鏡主/副鏡、衛(wèi)星多光譜成像儀鏡面、深空探測紅外鏡頭。
- 高地觀測系統(tǒng)、星載激光通信終端反射鏡。
- ?半導體與精密制造?：
- EUV光刻機反射鏡基板、晶圓檢測設備干涉鏡。
- 紅外熱像儀窗口、高精度光學測量系統(tǒng)參考鏡。
- ?科研與特殊環(huán)境?：
- 同步輻射光束線鏡面、核反應堆中子光學組件、高溫工業(yè)過程監(jiān)控鏡。
?為什么選擇我們的碳化硅鏡面？?
- ?材料與工藝領先?：
- CVD-SiC鏡面：單晶硅級表面質量，適用于EUV光刻等超精密光學系統(tǒng)。
- RB-SiC鏡面：低成本大尺寸方案，兼容輕量化蜂窩/閉孔結構設計。
- ?全流程品控體系?：
- 干涉儀（Zygo/MetroPro）全口徑面形檢測、白光輪廓儀粗糙度分析、激光損傷閾值測試（ISO 21254）。
- 提供熱變形仿真報告與鍍膜光譜性能曲線。
- ?定制化服務能力?：
- 支持非球面、自由曲面及微結構鏡面加工，孔徑/非孔徑遮攔設計。
- 鏡坯-拋光-鍍膜-裝調一站式交付，縮短客戶供應鏈周期。
- ?全球技術支持?：
- 提供光學設計輔助、熱力學仿真優(yōu)化及在軌性能監(jiān)測服務。
